Российские исследователи совершили прорыв в области физики плазмы. Учёным удалось получить стабильную плотную плазму, которая может стать источником экстремального ультрафиолетового излучения (ЭУФ). Это открытие имеет огромное значение для развития микроэлектронной промышленности.
Уникальное оборудование
Достижение стало возможным благодаря работе на специальной лазерной установке, которая генерирует непрерывный терагерцевый лазерный разряд. На данный момент это единственная в мире система, способная работать в таком режиме.
Перспективы применения
Полученный результат особенно важен для развития фотолитографии — ключевого процесса в производстве микросхем. ЭУФ-излучение с длиной волны 13,5 нанометров считается наиболее перспективным для создания сверхточных микроэлектронных структур.
Ближайшие планы
Исследователи намерены продолжить работу над проектом. Планируется:
- Увеличить мощность плазмы в 2-4 раза
- Использовать ксенон как рабочее вещество
- Разработать компактные источники ЭУФ-излучения
- Создать эффективные решения для промышленного применения
Научный потенциал
Работа ведётся в Институте ядерной физики имени Г. И. Будкера СО РАН — одном из ведущих мировых центров в области плазменной физики и управляемого термоядерного синтеза.
По материалам:
planet-today
