«Лассард» создала эксимерный лазер для литографического оборудования, который позволит освоить 130-нанометровый технологический процесс. Этот лазер предназначен для производства высокоточных микросхем, включая процессоры. Первые экспериментальные образцы российского лазера уже разработаны, тестирование запланировано на следующий год, а начиная с 2026 года начнётся серийное производство лазеров для литографических машин — не менее пяти лазеров в год, как сообщил заместитель министра промышленности и торговли России Василий Шпак.
Лазеры будут использоваться в литографических машинах, изначально рассчитанных на 350 нм, чтобы затем усовершенствовать технологию до 130 нм. По словам Шпака, такая разработка в перспективе позволит освоить 90-нанометровый и даже 65-нанометровый технологические процессы. Есть потенциальные заказчики на российские литографические машины с новым лазером, среди которых крупнейший российский производитель полупроводников «Микрон».
В настоящее время только две компании в мире, GigaPhoton из Японии и Cymer из США, производят лазеры для литографов. Россия ранее не выпускала такую продукцию, но может стать третьей страной с таким производством.
По материалам:
trashbox
